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半导体领域：有机材料蚀刻中TMAH作为正胶显影剂，有机材料蚀刻主要是指光刻胶在经过显影和图形转移后的去胶；TMAH是一种具有优良的腐蚀性能的各向异性腐蚀剂，选择性好，台州四甲基氢氧化铵，没毒且不污染环境。重要的是TMAH与互补金属氧化物半导(CMOS)工艺相兼容，符合SOC(嵌入式系统微处理器)的发展趋势。TMAH正逐渐替代KOH和其他腐蚀液，成为实现微电子机械系统(MEMS)工艺中微三维结构的主要腐蚀剂。

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如不慎吸入时，迅速脱离之空气新鲜处，保持呼吸畅通；若患者呼吸困难时，立即供应氧气，并就医；千万不要采用口对口的给氧方式。如果呼吸停止了，通过使用氧气或合适的医i用装置(面具，袋子)，采用人工呼吸急救法。医生特别注意此项。

如不慎食入，立即漱口，口服稀释的醋或柠檬汁，就医；目前并无其解了毒剂记载。